Caracterização ótica de filmes finos por Elipsometria Espectral
Elipsometria, polarização, filmes finos, semicondutores.
A Elipsometria é uma técnica ótica amplamente utilizada para investigar propriedades óticas de materiais, baseada no estudo da medida da mudança do estado de polarização da luz quando sofre reflexão em uma interface. Essa mudança de polarização é determinada pelas propriedades da amostra: espessura, índice de refração complexo ou tensor da função dielétrica. Utilizaremos está técnica para caracterizar amostras desenvolvidas no Laboratório de Materiais (LabMat), como: 𝑆𝑖𝑂2/Si, 𝑆𝑛𝑂2:F sobre vidro e 𝑀𝑜 sobre o vidro, devido sua exatidão em fornecer informações acerca da função dielétrica, espessura das camadas, largura da banda proibida e das propriedades óticas desses materiais. Devido à natureza complexa das amostras desenvolvidas (várias camadas no substrato) o processo de caracterização das amostras é constituído por uma medida indireta, sem causar danos à amostra, combinada a um processo de inversão, tornando necessário a realização de um tratamento computacional - com o uso de algoritmos de otimização - dos dados experimentais para obtenção das grandezas de interesse. Para isso, foi desenvolvido um software de elipsometria inédito em um ambiente de programação Visual Basic (VB6) capaz de processar os espectros medidos experimentalmente pelo elipsômetro e ajustar os vários parâmetros de funções dielétricas representativas dos materiais compondo o dispositivo estudado, até alcançar a melhor aproximação dos espectros experimentais pelo modelo teórico.